美光将在日本投资37亿美元开发新的芯片

美光科技公司周三表示，在日本政府的支持下，它计划在未来几年对极紫外光（EUV）技术投资高达5000亿日元（37亿美元）。

最新的极紫外光刻（EUV）芯片制造机器将被用于制造1-gamma，这种芯片可用于大规模生产图像处理网络等复杂应用中所需要的材料。

美光公司将是第一家将EUV技术带到日本生产的半导体公司，该公司表示，它预计从2025年起在台湾和日本的1-gamma节点上加大EUV的生产力度。

此前，这家美国存储芯片制造商去年在广岛的工厂启动了其新型高容量低功耗1-beta动态随机存取存储器（DRAM）芯片的大规模生产。

DRAM芯片是一种在断电时失去记忆的内存芯片。

日本一直在努力重振其芯片行业，其全球市场份额已从20世纪80年代末的50%左右降至10%左右，而美国正越来越多地敦促其盟友共同合作，以对抗中国的芯片和先进技术发展。